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真空蒸鍍

氣相沉積

下面介紹一下在真空狀態下進行生産的工業技術。
主要有真空蒸鍍、真空濺射鍍和磁控濺射鍍。
首先,請大家記住真空室這個概念,真空狀態的密閉容器被稱爲真空室。

什麽是真空蒸鍍?

真空蒸鍍,簡稱蒸鍍,是指在真空條件下,采用一定的加熱蒸發方式蒸發鍍膜材料(或稱膜料)並使之氣化,粒子飛至基片表面凝聚成膜的工藝方法。
凝聚成的薄膜,英文寫作Thinfilm。是蒸鍍之後在基板上産生的原子層。

有關蒸鍍環境。
在正常環境中,也就是在大氣環境中進行蒸鍍時,蒸發的鋁原子會與大氣中的氣體分子碰撞,墜落到底部或側面,不能到達(粘附到)頂部的基板。

沉積在大氣中

當在真空室中進行蒸鍍時,由于真空室中的氣體分子較少,鋁原子與氣體分子碰撞的風險降低,運動距離變長,到達(粘附到)頂部基板的幾率變大。

沉積在真空室中
水壺蓋上的水滴插圖

化学でいう雰囲気は、普段の雰囲気とちがう!?

アルゴン雰囲気って言葉知っていますか?
ここで用いられる雰囲気は、楽しそうとか御祝いするなどというムードとかではなく、その物質のみで満たすという意味です。
つまり、アルゴン雰囲気であれば、アルゴンガスだけで満たした状態です。
決して、アルゴンなムードじゃないです。と言うかどんなムードか分かんないですよね?